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光刻機/紫外曝光機 （Mask Aligner） 光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，紫外曝光機等；ECOPIA為的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以